Импульсное Лазерное Напыление (Pulsed Laser Deposition) – управляемый процесс осаждения на поверхности подложки продуктов плазменного абляционного факела, образованного при взаимодействии лазерного импульса с мишенью в вакуумной камере. Путем подбора соответствующего режима лазерной абляции (изменения энергии лазерного импульса и размера пятна фокусировки излучения на мишени), можно регулировать кинетическую энергию частиц в факеле в пределах от единиц до нескольких сотен электрон-вольт. Морфология структур получаемых пленок может варьироваться от аморфной до кристаллической. В качестве подложек могут использоваться металл, керамика, биоматериалы, процесс может производиться в диапазонах температур от комнатной до более чем 1000 С, в том числе в присутствии буферного газа (например, кислорода для напыления металлических оксидных пленок). В качестве мишени используется спрессованная стехиометрическая смесь порошков, исключительно простая в приготовлении. Для получения многослойных пленок используются мишени различного состава во время одного сеанса напыления.

Система импульсного лазерного напыления является многофункциональным инструментом современной нанолаборатории, позволяющим:

- разрабатывать новые типы тонкопленочных структур комплексного состава

- изучать фундаментальные механизмы процессов образования тонких пленок

Типичное время реализации нового типа тонкопленочной структуры от идеи до получения реального образца является наикратчайшим по сравнению со всеми альтернативными методами- молекулярно-лучевой эпитаксией, газофазным и жидкофазным осаждением, магнетронным напылением.

Компания "Наноинтек" представляет системы лазерного импульсного напыления и инструменты in situ диагностики тонкопленочных структур компании SURFACE (Германия)